Neustálý vývoj moderních technologií s sebou nese požadavky průmyslových firem na vzrůstající výpočetní rychlost technických zařízení a na miniaturizaci elektronických součástek. Jednou z hlavních cest, které v budoucnu umožní další zmenšování čipů, je využití tzv. EUV (extreme-ultraviolet) litografie. Dne 17. 10. 2012 seznámil Dr. Vivek Bakshi účastníky svého semináře, který organizoval projekt HiLASE ve spolupráci s projektem DPSSLasers, s nejnovějšími trendy ve vývoji EUV zdrojů záření pro moderní litografii.
