Power of light
Twitter Facebook EN JP JP
Zde se nacházíte: Úvod » EUV litografie – cesta k praktickému využití pokročilých laserových technologií centra HiLASE

EUV litografie – cesta k praktickému využití pokročilých laserových technologií centra HiLASE

Neustálý vývoj moderních technologií s sebou nese požadavky průmyslových firem na vzrůstající výpočetní rychlost technických zařízení a na miniaturizaci elektronických součástek. Jednou z hlavních cest, které v budoucnu umožní další zmenšování čipů, je využití tzv. EUV (extreme-ultraviolet) litografie. Laserový systém založený na technologii tzv. tenkých disků vyvíjený v rámci projektu HiLASE bude charakteristický vysokým středním výkonem na úrovni 500 W, opakovací frekvencí v řádu kHz a velmi dobrou fokusovatelností generovaného laserového svazku. Právě tyto parametry jej favorizují jako klíčový nástroj pro potřeby budoucí EUV litografie, jež bude vyžadovat kompaktní, ekonomicky dostupné a zároveň vysoce účinné zdroje EUV záření na bázi laserem generovaného plazmatu.

Dne 17. 10. 2012 seznámil Dr. Vivek Bakshi (Prezident společnosti EUV Litho, Inc) účastníky svého semináře, který organizovaly projekty HiLASE a DPSSLasers, s nejnovějšími trendy ve vývoji EUV  zdrojů záření pro moderní litografii. Mimo členů projektu HiLASE a DPSSLasers si prezentaci se zájmem vyslechli také Doc. Ing. Ladislav Pína, DrSc (Prezident společnosti Rigaku Innovative Technologies EUROPE, odborník na laserovou fyziku a rentgenovou fotoniku z Katedry fyzikální elektroniky FJFI ČVUT) a pan Jim Rodriguez (Rigaku, USA).

Seminář Dr. Bakshiho navazoval na specializovaný mezinárodní workshop zaměřený na EUV a zdroje měkkého rentgenového záření (2012 International Workshop on EUV and Soft X-Ray Sources), který se konal na začátku října 2012 v Dublinu a v jehož průběhu prezentoval dosavadní výsledky práce a vize do budoucna vedoucí Výzkumného programu 1 projektu HiLASE, Prof. Akira Endo. (Abstrakt jeho přehledové přednášky je k dispozici ZDE).

Nedílnou součástí návštěvy hostů na pracovišti projektu HiLASE bylo také představení výzkumných programů a prvních experimentů, které byly zahájeny v září 2012 v dočasné laboratoři SOFIA. Využitím laserů s aktivním prostředím ve tvaru tenkého disku pro EUV litografii se zabývá vědecký tým 1 vedený prof. A. Endem v rámci projektu DPSSLasers financovaného z Operačního programu Vzdělávání pro konkurenceschopnost. Podobná setkání a konzultace s externími odborníky v daném oboru umožňují našim vědcům sledovat aktuální trendy a identifikovat parametry a modifikace, které musí být na tenkodiskovém laserovém systému provedeny tak, aby splňoval požadavky pro dané využití.

Více informací o EUV Litografii a aktuálních trendech v této oblasti naleznete v prezentaci Dr. Bakshi
Fotografie z události
Abstrakty z workshopu: 2012 International Workshop on EUV and Soft X-Ray Sources

Tento projekt je realizován v rámci Operačního programu Vzdělávání pro konkurenceschopnost a financován z Evropského sociálního fondu a státního rozpočtu ČR.